尔必达（elpida）最新宣布消息表明，该公司已经成功从65纳米制程的300毫米晶圆芯片中开发完成芯片面积缩减20%的1Gbit 容量DDR2内存芯片颗粒，相比70纳米制程标准在技术上提升60%。

尔必达预计在今年底之前开始全面量产，制造工厂是隶属台湾rexchip联合投资公司的hiroshima，这家工厂同时也是力晶半导体（PSC，powerchip semiconductor corporATIon）的合作伙伴。

相比第一代65纳米制程芯片，尔必达的新工艺水准可以节省20%的制造成本，对比之下，50纳米制程技术虽然在制程技术方面有明显优势，但在设备以及衍生成本方面并不会令内存芯片工厂更轻松，因此尔必达在65纳米芯片制程技术标准上的革新更具有实际意义，尔必达认为新制程技术在内存芯片制造成本方面完全可以抗衡目前其他内存芯片厂已经发布的50纳米制程技术标准。

不过同时，尔必达也已经完成了50纳米制程技术的研发，并计划在今年11月左右完成，量产工作会在今年12月左右进行，这比尔必达原先预计的2009年1月～3月时间计划表要早不少。

相比65纳米制程技术，50纳米制程技术在芯片面积上缩减40平方毫米，成本降低约50%。